伊朗威脅！徹底摧毀美國星門數(shù)據(jù)?...

來源：市場資訊

（來源：半導體前沿）

-來自彤程，龍圖光罩，SEMI，復旦大學，南開大學，暨南大學，蘇州實驗室，欣奕華，上海光源，中電科48所，安捷倫，湖北菲利華，新維度微納，衛(wèi)利等單位的專家將作精彩報告

-第3屆光掩模與光刻膠技術論壇將于2026年4月24日在上海召開

伊朗伊斯蘭革命衛(wèi)隊（IRGC）在一段最新視頻中發(fā)出了明確威脅。

伊朗伊斯蘭革命衛(wèi)隊已向美國公開發(fā)出嚴正警告：任何針對伊朗電力基礎設施的打擊，都將遭到果斷報復。革命衛(wèi)隊發(fā)言人易卜拉欣?佐爾法加里準將威脅稱，要對美國及以色列相關設施實施“徹底、完全摧毀”。視頻后半部分特別點名阿布扎比這座隱秘的300 億美元星門 AI 數(shù)據(jù)中心，將其列為伊朗計劃摧毀的重要目標。此前有報道稱，伊朗通過火箭彈襲擊已對亞馬遜部分 AWS 數(shù)據(jù)中心造成嚴重損毀，導致其停運。

視頻中可以看到并聽到佐爾法加里針對美國在伊朗相關行動發(fā)表上述重磅威脅。這位軍方發(fā)言人宣稱：

“若美國繼續(xù)揚言打擊伊朗發(fā)電廠設施，我方將立即實施以下報復措施：猶太復國主義政權的所有發(fā)電廠、能源基礎設施、信息通信技術設施，以及該區(qū)域內所有有美國股東的同類企業(yè)，都將被徹底、完全摧毀。”

在佐爾法加里發(fā)表講話后，視頻畫面切換為太空視角的地球影像，鏡頭通過谷歌地圖逐步放大至阿布扎比，最終聚焦在一處近海區(qū)域，畫面中是一片看似空曠的沙漠。但屏幕上疊加了一行文字：

“即便被谷歌隱藏，在我們眼中也無所遁形。”

隨后視頻切換為該區(qū)域的“夜視視角”，位于阿布扎比的星門 AI 數(shù)據(jù)中心完整輪廓清晰顯現(xiàn)。

IRGC video截屏：

局勢升級還是虛張聲勢？

有人不禁質疑：如果伊朗真有能力實施打擊，為何在過去一個月的沖突中沒有直接攻擊星門這類數(shù)據(jù)中心？此前伊朗已成功襲擊并導致部分亞馬遜 AWS 數(shù)據(jù)中心運營中斷，或許那只是在海灣國家部署的防御體系下僥幸得手的襲擊。此外，近幾周伊朗還對英偉達、微軟、蘋果、谷歌及另外 14 家美國科技企業(yè)發(fā)出過類似威脅。

目前雙方均無意緩和言辭、減少武力使用，外界或許很快就能見證伊朗是否有能力對與美國商業(yè)相關的數(shù)據(jù)中心發(fā)動毀滅性打擊。這一行動必然會危及生命—— 這些設施內有工作人員值守，因此事態(tài)絕非只關乎這些中東巨型項目所投入的 300 億美元。

來源：官方媒體/網(wǎng)絡新聞

—論壇信息—

名稱：第3屆光掩模與光刻膠技術論壇

時間：2026年4月24日

地點：上海

主辦方：亞化咨詢

—會議背景—

隨著半導體工藝節(jié)點向2nm及以下推進，下一代光刻技術已成為行業(yè)焦點。主要方向包括高數(shù)值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術旨在提升分辨率、降低成本并提高產(chǎn)量。2026年，高NA EUV已進入高容量制造階段，而NIL和X射線光刻作為潛在顛覆者，正加速研發(fā)。

進入2026年，中國對高端光掩模的需求持續(xù)強勁增長，但技術研發(fā)、生產(chǎn)能力及產(chǎn)業(yè)鏈整合方面仍面臨高成本、技術復雜性和供應鏈依賴等諸多挑戰(zhàn)。全球半導體光掩模版市場在2018年至2024年間從40.4億美元增長至51億美元，年復合增長率達4.0%。預計到2030年，該市場規(guī)模將進一步擴大至約80億美元。亞化咨詢研究認為我國2025年第三方掩模版市場規(guī)模占比為70%左右，預計2030年中國掩模版市場規(guī)模有望達到120億元。

全球光掩模版市場主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企業(yè)主導，市場占有率超過70%。而在中國市場，路維光電、清溢光電、龍圖光罩等本土企業(yè)正在不斷提升其市場競爭力，并在國產(chǎn)化替代方面取得突破。

亞化咨詢預計2026年市場規(guī)模有望達到100億元。在ArF光刻膠領域，國內廠商正在加快研發(fā)進程，并取得了核心突破，如南大光電實現(xiàn)ArF光刻膠量產(chǎn)。國內一些光刻膠龍頭企業(yè)如上海新陽、南大光電、容大感光、廣信材料、晶瑞電材等，在光刻膠的研發(fā)和生產(chǎn)方面取得了顯著進展。據(jù)亞化咨詢最新行業(yè)調研，國內領先的光刻膠新銳企業(yè)還包括珠海基石(2022年成立)、國科天驥(2019年成立)等。國內光掩模與光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展正在提速，技術進步成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要推動力。

第3屆光掩模與光刻膠技術論壇將于2026年4月24日在上海召開。本次論壇由亞化咨詢主辦。此次會議將匯聚行業(yè)的領軍企業(yè)、機構的專家，探討下一代光刻技術發(fā)展方向，中國光掩模版與光刻膠產(chǎn)業(yè)的技術進展與應用，市場機遇與挑戰(zhàn)，和產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景。

—會議報告—

—贊助方案—

項目

項目內容

主題演講

25分鐘主題演講

參會名額

微信推送

“電子材料前沿”微信公眾號，

企業(yè)介紹以及相關軟文

會刊廣告

研討會會刊，

彩色全頁廣告（尺寸A4）

資料入袋贊助

企業(yè)的宣傳冊放入會議包袋

現(xiàn)場展臺

現(xiàn)場展示臺，展示樣品、資料，

含兩個參會名額

現(xiàn)場易拉寶

現(xiàn)場1個易拉寶展示

禮品贊助

印有贊助商logo的禮品贈送參會聽眾

茶歇贊助

冠名和贊助會議期間的茶歇

晚宴贊助

冠名和贊助會議的招待晚宴

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背景墻 logo，會刊封面logo

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