伊朗襲擊甲骨文、亞馬遜！英偉達(dá)?...

來(lái)源：市場(chǎng)資訊

（來(lái)源：半導(dǎo)體前沿）

-來(lái)自彤程，龍圖光罩，SEMI，復(fù)旦大學(xué)，南開(kāi)大學(xué)，暨南大學(xué)，蘇州實(shí)驗(yàn)室，欣奕華，上海光源，中電科48所，安捷倫，湖北菲利華，新維度微納，衛(wèi)利等單位的專家將作精彩報(bào)告

4月3日消息，據(jù)外媒報(bào)道，伊朗伊斯蘭革命衛(wèi)隊(duì)海軍司令部發(fā)表聲明稱，對(duì)位于迪拜的美國(guó)甲骨文公司數(shù)據(jù)中心以及位于巴林的亞馬遜公司數(shù)據(jù)中心實(shí)施了打擊！

聲明表示，這一行動(dòng)是為摧毀“暗殺機(jī)器”，美國(guó)總統(tǒng)特朗普的行為正讓美軍方付出慘痛代價(jià)。

伊朗伊斯蘭革命衛(wèi)隊(duì)3月31日發(fā)布公告說(shuō)，將中東地區(qū)與18家美國(guó)信息通信技術(shù)和人工智能企業(yè)有關(guān)的公司機(jī)構(gòu)作為“合法打擊目標(biāo)”，涉及思科、惠普、英特爾、甲骨文、微軟等企業(yè)。

4月1日，伊朗伊斯蘭革命衛(wèi)隊(duì)曾發(fā)布公告，將包括英偉達(dá)等18家美國(guó)企業(yè)作為打擊目標(biāo)。公告稱，4月1日晚8點(diǎn)起，“每當(dāng)伊朗遭受一次恐怖行動(dòng)，這些美國(guó)公司的相關(guān)設(shè)施都將遭打擊”！

這些美國(guó)大型科技企業(yè)包括英偉達(dá)、蘋(píng)果、谷歌、Meta和微軟，以及惠普、英特爾、IBM和思科等硬件供應(yīng)商。此外，特斯拉、甲骨文、摩根大通及波音等企業(yè)也在名單之列。

伊斯蘭革命衛(wèi)隊(duì)將上述企業(yè)定性為與美國(guó)政府相關(guān)的情報(bào)實(shí)體，并稱這些公司提供的AI及信息通信技術(shù)服務(wù)，是美以在伊朗策劃“恐怖行動(dòng)”和鎖定暗殺目標(biāo)的關(guān)鍵工具。

不過(guò)對(duì)于伊朗的聲明，阿聯(lián)酋迪拜媒體在其社交賬號(hào)發(fā)文，否認(rèn)伊朗對(duì)位于迪拜的甲骨文數(shù)據(jù)中心發(fā)動(dòng)襲擊。目前巴林還未對(duì)伊朗聲明做出回應(yīng)。

來(lái)源：官方媒體/網(wǎng)絡(luò)新聞

—論壇信息—

名稱：第3屆光掩模與光刻膠技術(shù)論壇

時(shí)間：2026年4月24日

地點(diǎn)：上海

主辦方：亞化咨詢

—會(huì)議背景—

隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)向2nm及以下推進(jìn)，下一代光刻技術(shù)已成為行業(yè)焦點(diǎn)。主要方向包括高數(shù)值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術(shù)旨在提升分辨率、降低成本并提高產(chǎn)量。2026年，高NA EUV已進(jìn)入高容量制造階段，而NIL和X射線光刻作為潛在顛覆者，正加速研發(fā)。

進(jìn)入2026年，中國(guó)對(duì)高端光掩模的需求持續(xù)強(qiáng)勁增長(zhǎng)，但技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)能力及產(chǎn)業(yè)鏈整合方面仍面臨高成本、技術(shù)復(fù)雜性和供應(yīng)鏈依賴等諸多挑戰(zhàn)。全球半導(dǎo)體光掩模版市場(chǎng)在2018年至2024年間從40.4億美元增長(zhǎng)至51億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)4.0%。預(yù)計(jì)到2030年，該市場(chǎng)規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大至約80億美元。亞化咨詢研究認(rèn)為我國(guó)2025年第三方掩模版市場(chǎng)規(guī)模占比為70%左右，預(yù)計(jì)2030年中國(guó)掩模版市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到120億元。

全球光掩模版市場(chǎng)主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企業(yè)主導(dǎo)，市場(chǎng)占有率超過(guò)70%。而在中國(guó)市場(chǎng)，路維光電、清溢光電、龍圖光罩等本土企業(yè)正在不斷提升其市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力，并在國(guó)產(chǎn)化替代方面取得突破。

亞化咨詢預(yù)計(jì)2026年市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到100億元。在ArF光刻膠領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)廠商正在加快研發(fā)進(jìn)程，并取得了核心突破，如南大光電實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠量產(chǎn)。國(guó)內(nèi)一些光刻膠龍頭企業(yè)如上海新陽(yáng)、南大光電、容大感光、廣信材料、晶瑞電材等，在光刻膠的研發(fā)和生產(chǎn)方面取得了顯著進(jìn)展。據(jù)亞化咨詢最新行業(yè)調(diào)研，國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的光刻膠新銳企業(yè)還包括珠海基石(2022年成立)、國(guó)科天驥(2019年成立)等。國(guó)內(nèi)光掩模與光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展正在提速，技術(shù)進(jìn)步成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要推動(dòng)力。

第3屆光掩模與光刻膠技術(shù)論壇將于2026年4月24日在上海召開(kāi)。本次論壇由亞化咨詢主辦。此次會(huì)議將匯聚行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)、機(jī)構(gòu)的專家，探討下一代光刻技術(shù)發(fā)展方向，中國(guó)光掩模版與光刻膠產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進(jìn)展與應(yīng)用，市場(chǎng)機(jī)遇與挑戰(zhàn)，和產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景。