美國政府官員：中國拿ASML落后的光刻機造先進芯片，美國已經無法阻止中國的技術崛起

散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

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前沿導讀

據英國《金融時報》刊登的專欄報告指出，美國政府官員約翰·莫雷爾對外表示：

盡管美國已經頒布了多種限制措施，但荷蘭的ASML依然踩在制裁的紅線上面持續運營。荷蘭政府以及日本政府已經在制定策略限制產品的出口，但是ASML卻更加傾向于跟中國企業合作。

我們的立場是基于對中美兩國關系的全面考慮，中國市場是開放的，我們必須確保我們的產品不會被用于任何不良目的。

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技術路線

美國政府委員會在新聞中指出，現階段最重要的任務就是確保ASML向中國出售的舊設備技術也必須受到控制，中國企業可以通過調整芯片生產過程，開發全新的制造技術，從而制造出水平更高的先進芯片。

荷蘭政府以及ASML公司對于出口管制的響應速度快，但是效率低，導致中國企業利用未被限制的老舊設備完成了先進芯片的技術開發。中國企業已經掌握了一種難度極高的芯片制造技術，這對于美國政府來說是萬萬不能接受的。

根據荷蘭半導體觀察者馬克·海金克以及ASML首席財務官羅杰·達森所發布的信息表示，ASML在2023年向中國大陸廠商交付了大量光刻機，其中涵蓋了多款浸潤式設備。

這些設備大多都是2022年及之前下單的產品，并且交付的企業均為中國成熟芯片制造商，符合美國以及荷蘭政府所頒布的出口條例。

前臺積電副總經理、浸潤式技術發明人林本堅在個人作品《Optical Lithography》中寫道：

浸潤式光刻機搭配MPT（多重圖案化）技術，可以實現更加復雜的圖案化曝光，制造出晶體管數量更多、金屬間距更小的先進芯片。浸潤式光刻機的制造節點涵蓋了從45nm到7nm，芯片越先進，對于設備的套刻精度誤差也就越敏感。

MPT總共4個技術節點，每次的技術節點都會帶來光刻和刻蝕技術的成本上升。每增加一個分離層，套刻的精度就會變差，芯片的良品率也就越低，這需要大量的資源來試錯，在一遍遍的錯誤當中不斷的優化調整，最終實現芯片的量產。

2023年，搭載國產7nm芯片的產品在市場上正式銷售。2024年1月，美國頒布了最新的限制措施，迫使荷蘭政府撤銷了ASML的對華出口許可，封鎖了ASML浸潤式光刻機的出口。

英特爾曾經也嘗試過用浸潤式光刻機搭配MPT技術制造等效于7nm的先進芯片，但是其并未解決良品率的問題，性能和能效也不盡人意，遲遲無法大面積量產，最終在后來轉向了EUV技術。

美國企業當年宣布失敗的技術路線，如今被中國企業完成了，并且完成的很好。

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制裁封鎖

美國技術調查人員針對中國企業進口的芯片制造設備進行了研究，這些設備來自于美國、韓國以及荷蘭的企業，并且都是一些允許出口的舊產品，其最終歸屬地也是中國的成熟工廠。

但是中國企業通過對老設備的技術調整，利用其物理極限制造芯片，這是一種風險極高、難度極高、投資巨大的工程。中國企業有效地利用所有資源，完成了先進芯片的量產，在一定程度上突破了美國的制裁，中國技術崛起已經是一個不可避免的趨勢。

美國政府需要針對這些已經出售的老舊設備進行管控，必須要確保美國的技術設備不會被其他企業用于任何的不良目的。

美國已經對荷蘭政府和ASML進行施壓，要求其限制向中國繼續出口設備材料，還要求ASML對已經出售給中國的老設備進行實時監督，找尋中國企業違規使用設備的漏洞。

ASML前CEO彼得·溫寧克，曾經在中美芯片戰最激烈的時候充當一個企業外交官的角色。

溫寧克與英偉達CEO黃仁勛類似，一邊游說美國政府放寬制裁條例，一邊還要維護好與中國市場的聯系，根本不想放棄發展潛力巨大的中國市場。

溫寧克曾接受美國彭博社采訪時指出：

ASML是一個全球化的企業，服務于全球市場，致力于為人類開發更高水平的設備去發展尖端科技。ASML已經與中國市場合作了20多年，中國市場是芯片增量最大的市場，也是最具發展潛力的市場，并且中國市場上也有ASML的同行，良好的競爭條件有助于產業發展。

美國單方面的對華制裁，讓ASML陷入了泥潭。

ASML不再被允許向中國企業出售先進設備，而中國企業所持有的采購資金，自然而然的流到了本土企業的身上，也就是ASML的競爭對手SMEE（上海微電子），這無異于逼迫中國企業放棄全球化路線，走上自立自強的道路。

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