募資14.6億攻堅高端掩模版，龍圖光罩能否打破業績僵局？｜看財報

3月23日晚，科創板半導體掩模版企業龍圖光罩（699721.SH）拋出一份雄心勃勃的定增預案，計劃向特定對象發行股票募資不超過14.6億元，全部投入“40nm-28nm半導體掩模版生產線建設項目”。

在上市后首份年報即顯露“營收停滯、利潤腰斬”疲態的當下，龍圖光罩試圖以一場針對高端制程的“攻堅戰”，填補國內關鍵供應鏈空白，并扭轉自身的盈利困境。

募資14.6億聚焦高端賽道

龍圖光罩此次募資，目標明確，路徑清晰，是一份典型的“攻堅”方案。根據公告，本次募資凈額將毫無保留地全部投入上述高端生產線建設，項目總投資額近19.54億元。

公告顯示，公司計劃購置電子束光刻機、干法蝕刻機、高端量檢測設備等，這些是生產40nm-28nm掩模版的“工業母機”。而全球高端掩模版設備市場，正是被瑞典Mycronic、日本JEOL等公司牢牢掌控。龍圖光罩的此次采購，本質上是在補齊自身高端制造能力的“工具箱”，其挑戰不僅在于資金，更在于能否消化、掌握并發揮這些頂級設備的效能。

產能與產品結構的雙重升級，是本次投資的核心價值。項目預計建設周期3年，達產后將每年新增15000片半導體掩模版產能。更關鍵的是產品線結構調整：公司將從當前主力的130nm以上制程，向40nm-28nm的KrF-PSM、ArF-PSM及OMOG等高端掩模版拓展。

這意味著，其業務矩陣將從國內競爭已趨白熱化的中低端“紅海”，奮力切入國產供給幾乎空白的中高端“藍海”，直接對接國內晶圓廠在CIS、顯示驅動、功率半導體等熱點領域對28nm級掩模版的需求。

這一戰略選擇的背后，是嚴峻而迫切的行業格局。目前，全球第三方掩模版市場超70%的份額由美國Photronics、日本Toppan和DNP三家把持，構筑了極高的技術和市場壁壘。在國內，半導體掩模版整體國產化率較低，而中高端掩模版的國產化率更是低至3%左右。

28nm制程，已成為衡量國內掩模版企業技術實力的關鍵標尺，也是能否參與主流高端芯片制造供應鏈的“入場券”。在外部技術限制持續的背景下，實現28nm掩模版的自主可控，已不僅是商業機會，更是產業鏈安全的緊迫命題。

龍圖光罩在公告中直言，項目旨在“填補我國40nm-28nm制程節點半導體掩模版的市場空白”。若項目成功，公司有望在AI、汽車電子、物聯網驅動的增量市場中搶占國產替代先機。

為確保控制權穩定，此次發行對象不超過35名，發行后實控人團隊合計持股比例預計從56.99%稀釋至43.84%，仍保持絕對控制。

上市一年業績承壓下謀變

這份激進的擴張計劃，映襯出的是龍圖光罩上市后并不樂觀的經營現實。作為2024年8月登陸科創板的“國產掩模版稀缺標的”，公司未能延續增長神話，反而迅速面臨業績壓力。

2025年度業績快報顯示，公司全年營收2.47億元，同比微增0.06%；而歸屬于母公司的凈利潤僅為5798.51萬元，同比大幅下滑36.86%。更為核心的盈利指標全面走弱：營業利潤下降42.12%，扣非凈利潤下降37.81%，基本每股收益從0.83元腰斬至0.43元。這份成績單，無疑給市場澆了一盆冷水。

利潤大幅縮水，背后是多重因素疊加的“陣痛期”。公司公告中揭示了四個主要原因：

一是半導體掩模版行業競爭顯現，130nm及以上 制程的光罩產品競爭加劇，公司針對部分客戶進行了策略性降價，導致深圳工廠 相應產品毛利率下降；

二是珠海新工廠處于產能爬坡關鍵期，固定資產折舊成本 較高，規模效應尚未完全釋放，產品毛利率為負；

三是公司重點布局高端制程及關鍵客戶開發，研發投入、銷售費用等同比增加明顯；

此外，珠海工廠采購的原材料中，部分存貨可變現凈值低于成本，公司基于審慎性原則計提了相應的資產減值損失。

盡管利潤表承壓，公司的現金流量表仍透露出一線韌性。截至2025年第三季度，其經營活動現金流凈額仍為4341.39萬元，顯示主營業務的“造血”功能尚存。

此次14.6億的募資，因此被賦予了雙重使命：對外，是對準國家亟需突破的半導體關鍵材料“城墻口”；對內，則是公司擺脫當前盈利困境、實現產品結構與競爭力升級的“翻身仗”。

公司計劃通過新項目提升高端產品占比，以改善毛利率；同時加快珠海工廠產能釋放，以攤薄成本。這是一條從“以價換量”的防守，轉向“以技術溢價”進攻的路徑。

對于龍圖光罩而言，此次募資只是破局的第一步，后續如何將資金高效轉化為技術實力與產能優勢，實現業績反轉，仍有待市場檢驗。(文 | 公司觀察，作者 | 周健 ，編輯 | 曹晟源)