尼康光刻機，應該被中國買下

【文/觀察者網 心智觀察所】

當我們回看尼康（Nikon）過去三年的財務曲線，很難不為這家創立于1917年的日本光學巨頭感到惋惜。2025財年預估巨虧850億日元，半年僅出貨9臺成熟制程光刻機，運營58年的橫濱工廠被迫關閉——這些數字拼湊出的，是一幅半導體設備王者跌落神壇的殘酷圖景。

與此同時，在太平洋的另一端，中國半導體產業正以前所未有的速度推進國產替代。一邊是急需技術輸血的龐大市場，一邊是手握百年光學積淀卻深陷泥潭的老牌企業——“中方能否收購尼康的光刻機業務”這個問題，雖然在現實政治中幾乎是一個禁忌話題，但從純粹的產業邏輯和戰略推演角度，它卻值得被嚴肅地討論一次。

尼康光刻機業務：一份觸目驚心的“體檢報告”

要評估收購的價值，首先需要理解標的資產的真實狀況。尼康的精密設備事業部——也就是包含光刻機業務的核心部門——正在經歷系統性的萎縮。

財務層面，2025財年尼康全公司營收約7152億日元，同比微降0.3%，但營業利潤暴跌93.9%至僅24億日元。精密設備部門中，半導體光刻機分部的收入和利潤雙雙下滑，原因是新機出貨量大幅減少，同時還計入了固定資產減值和庫存減記等一次性損失。到2026財年上半年（截至2025年9月），情況進一步惡化：ArF光刻系統出貨量繼續下降，該部門僅靠將晶圓鍵合技術研發業務轉讓所獲得的21億日元一次性收益，才勉強維持了賬面上的利潤增長。

尼康整體市值已萎縮至約40億美元左右——這個數字意味著什么？作為對比，ASML的市值在2500億美元量級。尼康全公司的市值，不到ASML的2%。如果單獨剝離光刻機業務來估值，考慮到該部門持續虧損且缺乏先進制程產品線，其資產價值可能僅在數億到十幾億美元之間。從純財務角度看，這是一個便宜的標的。

技術層面，尼康的困境更為深刻。該公司目前能提供的產品主要集中在成熟制程的ArF（氟化氬）干式和浸潤式光刻機。在先進制程領域——也就是7納米及以下的EUV光刻技術——尼康已經徹底出局。盡管尼康曾投入超過1000億日元研發EUV技術，但到2018年仍只有無法商用的原型機，最終被迫承認失敗。目前全球EUV光刻機市場被ASML百分之百壟斷，尼康在這個決定半導體技術制高點的賽道上已毫無存在感。

值得注意的是，尼康并未完全放棄努力。公司正在與一家大型半導體制造商合作開發新一代ArF浸潤式光刻系統，計劃2028年交付原型機。這套系統被設計為與其他廠商的光刻系統兼容，試圖在成熟到中端制程市場重新爭奪一席之地。但一個殘酷的事實是，這種追趕者的研發節奏，遠遠無法匹配行業技術迭代的速度。

市場層面，尼康的客戶基礎已極度脆弱。過去，尼康與英特爾形成了深度綁定關系，英特爾一度是尼康最大的光刻機客戶。但2024年英特爾因巨額虧損大幅削減資本支出，尼康的訂單隨之斷崖式下跌。更致命的是，在美國對華出口管制的壓力下，尼康主動放棄了曾占其光刻機銷售額四成以上的中國大陸市場。這意味著尼康同時失去了最大的存量客戶和最大的增量市場。

對比之下，ASML在2025年售出327臺設備，其中48臺為高端EUV光刻機。尼康的半年9臺成熟制程設備出貨量，在行業格局中已近乎可以忽略不計。

中方為什么“需要”尼康的光刻技術？

盡管尼康在先進制程上已經落后，但這并不意味著它的技術積累毫無價值——尤其是對于中國半導體產業而言。

第一，成熟制程光刻機的戰略意義被嚴重低估。 全球芯片需求中，28納米及以上成熟制程的芯片仍占據總量的七成以上。汽車電子、工業控制、物聯網、消費電子等領域大量依賴成熟制程芯片。中國作為全球最大的芯片消費市場，對成熟制程光刻機有巨大且持續的需求。目前中國大陸某光刻機制造商雖然已宣布可交付28納米節點的設備，但在產能規模、設備穩定性和良率控制方面，與尼康成熟的ArF系列產品仍有顯著差距。

尼康的光學技術底蘊具有不可替代性。光刻機的核心在于光學系統。尼康擁有超過一個世紀的精密光學設計和制造經驗，其鏡頭研磨、光學鍍膜、對準系統等核心能力，是數十年工程經驗和工藝訣竅的結晶。這些隱性知識很難通過逆向工程或論文研讀來復制，但可以通過收購和整合來繼承。如果中國企業能夠獲得尼康的光學設計團隊和工藝文檔，將顯著縮短國產光刻機在光學系統上的追趕時間。

尼康的專利組合仍具商業價值。雖然尼康在EUV領域已經落后，但其在DUV（深紫外光）光刻領域積累了大量有效專利，涵蓋光源系統、投影物鏡、晶圓臺、對準與套刻技術等多個子系統。這些專利既是潛在收購者的技術護城河，也能在與ASML等競爭對手的交叉授權談判中提供籌碼。

尼康的光刻機供應鏈涉及日本眾多精密零部件供應商，包括光源、光學玻璃、精密運動平臺等。通過收購尼康的光刻機業務，中方企業有機會建立與日本精密制造供應鏈的合作通道，這對于提升國產半導體設備的整體水平具有重要的拉動作用。

光刻機被稱為人類工業皇冠上的明珠，其復雜程度使得從業人才極其稀缺。尼康的光刻機團隊雖然在縮編，但其中仍有大量經驗豐富的系統工程師、光學設計師和工藝專家。在尼康持續裁員和業務收縮的大背景下，人才流失已經在發生。如果中方能夠通過收購或合作的方式留住這些人才，其價值將遠超任何硬件資產。

收購面臨的多重壁壘

然而，從產業邏輯上的合理性到現實操作中的可行性，中間隔著一道幾乎無法逾越的鴻溝。

日本的外商投資審查制度正在急劇收緊。日本的《外匯及外貿法》（FEFTA）近年來經歷了密集修訂。2025年5月生效的修正案引入了兩個重大變化：一是縮小了對受外國政府實質性影響或有效控制的投資者的審查豁免范圍；二是擴大了被列為“指定核心業務實體”的企業范圍——半導體制造設備赫然在列。這意味著，任何中國實體試圖收購日本半導體設備企業的股權，都將面臨強制性的事前審查，而審查結果大概率是否決。

日本政府調查顯示，超過85%的日本政策制定者希望經濟政策與國家安全保持一致，超過80%支持更嚴格的外商投資審查，尤其是在國防、先進技術和關鍵基礎設施領域。半導體制造設備，毫無疑問屬于審查的重災區。

美國的長臂管轄構成第二道防線。即便日本政府在理論上放行，美國也有足夠的法律工具來阻止這筆交易。CFIUS（美國外國投資委員會）已多次展示其在半導體領域的強硬立場——迄今為止，美國總統動用CFIUS權力否決的交易中，有近一半涉及半導體行業。更令人關注的是，CFIUS甚至愿意對與美國本土關聯極為有限的交易行使管轄權：2021年，一家在韓國運營、僅在紐約證券交易所掛牌上市的半導體公司被中國資本收購的交易，就被CFIUS叫停。

尼康的光刻機業務使用了大量美國來源的技術和零部件，其產品也受美國出口管制法規的約束。可以合理推斷，任何涉及中方收購尼康光刻機業務的交易，都會自動觸發美國的審查機制，而獲批的概率接近于零。

2025年美國進一步強化了出口管制，將限制范圍擴展至外國關聯企業。同年提出的《MATCH法案》更是企圖建立全球性的半導體設備出口管制聯盟，如果協調失敗，美國將把限制措施域外適用于任何含有美國技術的工具。在這種法律環境下，中方收購日本光刻機資產的空間被進一步壓縮到幾乎為零。

此外，日本政府正在以“經濟安全保障”為旗號，將半導體產業提升到國家戰略的高度。截至目前，日本對半導體產業的補貼總額已達257億美元，按GDP占比計算為全球最高。日本政府扶持Rapidus項目、邀請臺積電建廠、補貼三星設立研發中心——所有這些舉措都指向一個清晰的目標：重建日本在全球半導體供應鏈中的戰略地位。在這樣的國家意志下，允許光刻機技術流向中國，無異于自毀戰略根基。

而且，即便尼康的光刻機業務陷入困境，該公司也不太可能選擇向中方出售。尼康仍在嘗試自救——開發新一代ArF浸潤式系統、為ASML供應EUV相關零部件、推進3D打印等數字制造新業務。此外，2026年初有報道稱法國眼鏡巨頭依視路陸遜梯卡（EssilorLuxottica）披露了對尼康的持股信息，引發了尼康股價大漲，暗示來自西方盟友的戰略投資可能成為更可接受的選項。

迂回路徑：如果不是直接收購，還有什么可能？

直接收購的大門幾乎完全關閉，但產業界的博弈從來不會只有正面強攻一條路。以下幾種“迂回路徑”在理論上值得探討。

在出口管制的灰色地帶，尼康可以考慮將部分非敏感技術以授權方式轉讓給中方企業。例如，成熟制程光刻機中的晶圓臺運動控制技術、對準算法優化等，如果不涉及最新的管制清單，理論上存在授權合作的空間。但這條路徑同樣面臨巨大的政治風險，且技術解耦后的價值可能大打折扣。

2025上海進博會，尼康展臺

在尼康持續裁員和業務收縮的背景下，其光刻機團隊中的部分工程師可能選擇跳槽。歷史上，三星和臺積電都曾通過高薪挖角日本半導體人才來提升自身能力。中國企業是否能復制這一策略？從技術角度看是可行的，但從法律和政治角度看，日本2025年修訂的FEFTA已經加強了對技術泄露的防范，任何被認為可能導致敏感信息流向中國的人才流動，都可能引發監管干預。

還有一條路徑，第三方架構。通過設立在新加坡、馬來西亞等中立國的實體來間接持有尼康的部分技術資產或參與合資企業。但在當前的地緣政治環境下，美國和日本對“中間人”架構的警覺性極高。CFIUS已經展示了穿透多層控股結構的能力，而日本的FEFTA也針對受外國政府影響的投資者設置了更嚴格的披露要求。這條路徑的隱蔽性和可操作性都在快速下降。

路徑四：收購非核心光學資產。 如果直接收購光刻機業務不可行，中方企業是否可以收購尼康在光學鏡頭、工業測量、顯微鏡等領域的部分業務？這些領域雖然不直接涉及光刻技術，但其光學設計和制造能力具有向光刻機領域遷移的潛力。這條路徑在監管層面的阻力可能相對較小，但技術轉化的效率和確定性也較低。

佳能的NIL技術：一個被忽視的變量

在討論中方收購尼康的可能性時，不應忽視另一家日本光學巨頭——佳能——所選擇的另一條道路。

佳能沒有在EUV賽道上與ASML正面競爭，而是押注納米壓印光刻（NIL）技術。這種技術的研發成本僅為EUV的十分之一，原理上更接近“蓋章”而非“投影”——通過將預制模板直接壓印到晶圓上來轉移圖案。2026年初，佳能宣布開發出突破性的晶圓平坦化技術，預計2027年實現商用。

NIL技術的存在提出了一個有趣的問題：對于中國半導體產業而言，與其花費巨大的政治和經濟成本去收購尼康的傳統DUV光刻技術——一個已經被ASML證明是上一代的技術路線——是否不如將資源投入到NIL等新興技術路線的自主研發上？畢竟，在顛覆性技術面前，彎道超車的可能性雖然渺茫，但至少不會受到現有出口管制框架的全面封鎖。

一個更現實的圖景

讓我們回到現實。中方收購尼康光刻機業務的可能性，在當前的地緣政治格局下無限接近于零。但這個暢想本身，折射出的是半導體產業深層結構性矛盾。

對中國而言，光刻機是國產替代進程中最難啃的硬骨頭。光刻機不是一臺機器的問題，而是一個由光源、光學系統、精密運動平臺、對準系統、抗蝕劑等數萬個零部件構成的生態系統問題。在這個漫長的追趕期內，任何能縮短差距的外部技術獲取渠道——哪怕只是成熟制程層面的——都具有巨大的戰略價值。

對尼康而言，光刻機業務正在從利潤中心變成資金黑洞。但日本社會的企業文化和政治環境決定了，尼康不太可能主動出售這一承載著民族自豪感的業務部門，尤其不會出售給中方。更可能的路徑是：繼續在成熟制程市場苦撐，為ASML供應EUV零部件以維持技術關聯度，同時寄望于與合作伙伴共同開發的新一代ArF系統能在2028年之后打開局面。

對日本政府而言，尼康的光刻機業務雖然在商業上已接近失敗，但其技術能力仍屬于國家安全資產。日本更可能通過補貼、稅收優惠或產業整合的方式來托底尼康，而不是放任其核心技術落入競爭對手手中。不排除在極端情況下，日本政府推動尼康的光刻機業務與佳能或其他國內企業進行整合的可能性。

對ASML而言，尼康的衰落既是利好也是隱憂。利好在于競爭對手的退出進一步鞏固了壟斷地位；隱憂在于，一個完全沒有競爭的市場可能招致反壟斷審查，同時也失去了推動自身創新的外部壓力。ASML已經開始布局先進封裝設備市場，試圖包辦芯片制造的前后段流程，這種全系統通吃的野心，某種程度上也是尼康衰落后競爭格局失衡的產物。

結語：一場不會發生的收購，和一個必須正視的命題

尼康光刻機業務被中方收購的概率，在可預見的未來幾乎為零。日本日益收緊的外資審查制度、美國無處不在的長臂管轄、半導體技術的高度政治化，以及日本國內的民族情感——每一道壁壘都足以獨立否決這筆交易，更不用說它們疊加在一起形成的銅墻鐵壁。

但這個“不可能”的背后，隱藏著一個中國半導體產業必須正視的命題：在全球技術協作網絡對中國日益封閉的趨勢下，光刻機的自主化沒有捷徑可走。收購尼康是一個誘人的幻想，但真正的出路，恐怕只有兩條——要么在現有的DUV技術路線上投入比尼康當年更多的資源和更長的耐心，一步步攻克從光源到鏡頭到整機集成的全鏈條難題；要么在NIL、電子束直寫等下一代光刻技術上尋找彎道超車的可能性，賭一個尚未被壟斷巨頭完全鎖死的技術方向。

尼康的故事給所有追趕者敲響了警鐘：在這個由資本、技術和地緣政治共同驅動的競技場上，閉門造車是死路一條，但試圖購買別人的車也可能此路不通。真正的贏家，永遠是那些既有技術自信又懂得在全球化游戲中找到自己位置的玩家。ASML用開放合作擊敗了堅持垂直整合的尼康；那么，誰能用什么樣的策略來挑戰已經稱王的ASML？

這個問題的答案，將定義未來十年全球半導體產業的格局。

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