荷蘭分析師：中國至少需要5年時(shí)間，才能勉強(qiáng)追上ASML的DUV光刻機(jī)

最近荷蘭有個(gè)分析師的話，在半導(dǎo)體圈傳瘋了——他說中國想追上ASML的DUV光刻機(jī)最新水平，至少得熬5年，還只是“勉強(qiáng)追上”？這話是Insinger Gilissen公司的Jos Versteeg在2025年10月接受采訪時(shí)說的，那時(shí)候ASML對中國的設(shè)備出口管制還在收緊，連帶著ASML自己的中國營收占比都從2024年的36%往下降了。不過有意思的是，這管制反而逼著中國加速自己搞光刻機(jī)了，連工信部都把國產(chǎn)干式光刻機(jī)列進(jìn)重大裝備推廣目錄了，分辨率能到65納米以下，套刻精度8納米以內(nèi)，已經(jīng)開始推廣用在成熟制程芯片上了。

ASML以前可離不開中國市場，2024年的時(shí)候中國還占它營收36%以上呢，結(jié)果2025年管制一升級，公司自己都預(yù)計(jì)要降到20%左右。不過ASML對中國產(chǎn)業(yè)的動靜盯得可緊了，畢竟以前靠中國客戶賺了不少，現(xiàn)在管制下只能看著營收掉。

ASML前CEO彼得·溫寧克也說過，美國的管制更多是意識形態(tài)那套，跟當(dāng)年對日本的半導(dǎo)體貿(mào)易戰(zhàn)不一樣——那時(shí)候人家有實(shí)打?qū)嵉氖袌鰯?shù)據(jù)撐著，現(xiàn)在這管制根本沒什么事實(shí)依據(jù)。他退休了還愛聊這些，看來也是真關(guān)心這行的走向。

中國工信部2024年9月就把國產(chǎn)氟化氬干式光刻機(jī)列進(jìn)重大裝備推廣目錄了，分辨率65納米以下，套刻精度8納米以內(nèi)，已經(jīng)進(jìn)入推廣階段，專門用在成熟制程芯片生產(chǎn)上。跟浸潤式比起來，干式不用搞液體介質(zhì)控制那堆麻煩事，但精度匹配還是得反復(fù)驗(yàn)證才行，這可不是光造出來就完了的。

浸潤式DUV光刻機(jī)就難多了，液體注入、對準(zhǔn)系統(tǒng)、多重曝光這些環(huán)節(jié)都得協(xié)調(diào)好，光源穩(wěn)不穩(wěn)定、工作臺動得準(zhǔn)不準(zhǔn)，直接決定成像效果。而且光學(xué)鏡組是德國蔡司主導(dǎo)的，人家從顯微鏡起家，積累了1500多項(xiàng)專利，鏡組的多層鍍膜工藝要求高到離譜，厚度偏差得控制在特別小的范圍里，這可不是隨便哪家能搞定的。

國內(nèi)也有企業(yè)在沖，比如舜宇光學(xué)，人家做鏡頭幾十年了，從顯微鏡到消費(fèi)級部件都有產(chǎn)品線。2025年7月14日，舜宇奧來在上海臨港基地把首臺核心設(shè)備搬進(jìn)去了，還跟國有投資機(jī)構(gòu)、半導(dǎo)體企業(yè)簽了合作協(xié)議，重點(diǎn)搞集成電路光學(xué)部件的協(xié)同。

這協(xié)議主要是技術(shù)共享和應(yīng)用場景對接，舜宇奧來這項(xiàng)目填補(bǔ)了國內(nèi)微納光學(xué)規(guī)?；a(chǎn)的空白，從設(shè)計(jì)到制造再到整機(jī)應(yīng)用，能形成完整鏈條。還涉及人工智能設(shè)備制造這些方向，推動光學(xué)技術(shù)落地?，F(xiàn)在已經(jīng)到小批量試產(chǎn)階段了，進(jìn)度還挺快。

ASML的專利覆蓋了光刻機(jī)全流程，蔡司鏡組的反射率優(yōu)化、畸變校正算法都受保護(hù)。中國企業(yè)雖然資金和人才夠，但實(shí)際驗(yàn)證數(shù)據(jù)得慢慢攢，這不是光砸錢就能出來的。韋爾斯蒂格就是看了這些才判斷，追趕周期縮不了多少。國內(nèi)干式設(shè)備已經(jīng)起步了，浸潤式還在攻關(guān)鍵子系統(tǒng)，一步一步來。

2025年的管制條例讓不少設(shè)備交付計(jì)劃變了，中國大陸工廠還被列進(jìn)更多限制清單里。ASML其他對華業(yè)務(wù)還能做，但整體營收占比掉得明顯。國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈現(xiàn)在轉(zhuǎn)向設(shè)備自給，成熟制程光刻機(jī)的應(yīng)用范圍慢慢擴(kuò)大，畢竟自己有了才踏實(shí)。

舜宇光學(xué)子公司還跟中微半導(dǎo)體這些企業(yè)合作，啟動國產(chǎn)集成電路設(shè)備在光學(xué)領(lǐng)域的在地協(xié)作，連碳化硅襯底材料都加進(jìn)來了，開拓新材料應(yīng)用場景。這些合作把資本、技術(shù)、場景優(yōu)勢湊一塊，就是怕單一環(huán)節(jié)被卡脖子，產(chǎn)業(yè)自主化照著規(guī)劃走，穩(wěn)得很。

光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)整合測試得反復(fù)迭代，專利壁壘擺在那，企業(yè)只能從基礎(chǔ)工藝抓起。蔡司的地位現(xiàn)在還穩(wěn)得很，國內(nèi)舜宇正通過項(xiàng)目攢經(jīng)驗(yàn)。未來五年，技術(shù)差距肯定能縮小，但要完全對標(biāo)ASML最新的DUV水平，還得持續(xù)砸錢投時(shí)間，急不來。

中國的光刻機(jī)在成熟制程領(lǐng)域用得越來越多了，ASML中國營收雖然掉了，但國內(nèi)項(xiàng)目穩(wěn)步推進(jìn)。溫寧克還在觀察趨勢，韋爾斯蒂格也繼續(xù)做市場評估。關(guān)鍵光學(xué)產(chǎn)業(yè)鏈連接越來越緊，設(shè)計(jì)制造到應(yīng)用的閉環(huán)初步形成了，產(chǎn)業(yè)進(jìn)展就照著原來的節(jié)奏走，一步一個(gè)腳印。

參考資料：人民日報(bào)《我國半導(dǎo)體裝備自主化取得新進(jìn)展》；央視新聞《ASML對華出口管制影響分析》