尼康最懂光刻機的CEO卸任，留下850億日元的窟窿

2026 年 4 月 1 日，尼康集團會長兼 CEO 馬立稔和（Toshikazu Umatate）卸任。接替他出任社長兼 CEO 的是此前負責醫(yī)療健康和光學技術的大村泰弘，現任社長兼 COO 德成旨亮則轉任會長。尼康在 2 月 12 日的董事會上通過了這一人事方案，稱之為“配合新中期經營計劃的領導層調整”。

但在外界看來，這絕非一次從容的交接。截至 2026 年 3 月結束的財年，尼康預計錄得約 1,000 億日元的營業(yè)虧損和約 850 億日元的凈虧損。這是這家創(chuàng)立于 1917 年的光學企業(yè)有史以來最糟糕的財務表現。第三季度單季凈虧損就達到 925 億日元，一年前同期還有 33 億日元的盈利。

圖丨馬立稔和（來源：Nikon）

巨虧的直接原因是一筆高達 906 億日元的減值損失，來自尼康 2022 年收購的德國金屬 3D 打印公司 SLM Solutions。尼康承認，SLM 未來的銷售增長將遠低于收購時的預期。但減值之外，公司的核心精機事業(yè)（半導體和 FPD 光刻設備）同樣在經歷庫存減記和訂單萎縮。即便剔除一次性因素，尼康本財年仍預計出現約 100 億日元的營業(yè)虧損。

2025 年度上半年，尼康的半導體光刻機僅售出 9 臺，全部是成熟制程的 DUV（深紫外）設備。同一時期，ASML 出貨約 160 臺，其中包括約 20 臺 EUV（極紫外）光刻機。兩家公司曾經是勢均力敵的對手，如今這個出貨比已經沒有什么可比性了。

馬立稔和在尼康的職業(yè)生涯跨越了將近四十年，幾乎全部圍繞半導體光刻機展開。早在 2006 年，他就以精機事業(yè)部執(zhí)行役員的身份代表尼康出席與新思科技（Synopsys）的聯合技術發(fā)布會，討論 45nm 工藝節(jié)點的光刻仿真優(yōu)化。

2014 年至 2019 年間，他擔任半導體光刻事業(yè)部的高級副總裁兼總經理，直接管理這項業(yè)務的研發(fā)和銷售。2015 年尼康獲得英特爾“最佳品質供應商”獎時，站出來代表公司致辭的也是他。此后他先升任 CTO，2019 年出任社長兼 CEO，2024 年 4 月又兼任會長。

尼康內部沒有誰比馬立稔和更深地扎根于光刻機業(yè)務。這既意味著他對技術細節(jié)有著極深的理解，也意味著尼康光刻機在過去二十年間的戰(zhàn)略走向，他始終是核心參與者。

故事要從尼康光刻機最風光的年代說起。1980 年代到 1990 年代末，尼康是這個領域無可爭議的霸主。市場份額最高時超過 50%，英特爾、IBM、AMD、德州儀器都是它的客戶。尼康 1980 年推出第一臺商用半導體光刻機后，憑借在光學鏡頭和精密機械上的積累，在此后二十年里穩(wěn)坐行業(yè)第一。1982 年成立的 Nikon Precision 把服務前線直接設在硅谷，美國芯片廠商排著隊等設備交付。

1984 年，ASML 在荷蘭由飛利浦實驗室與 ASM International 合資成立，31 個人擠在飛利浦總部旁邊的臨時板房里辦公。之后整整十六年，ASML 的份額長期不超過 10%，在尼康面前幾乎沒有存在感。

轉折從 2002 年開始。當時光刻機行業(yè)遇到了一個集體性的技術瓶頸：193nm 波長的 ArF 光源潛力已經逼近極限，而業(yè)界寄予厚望的下一代 157nm 光源，研發(fā)進展緩慢，配套的 CaF? 透鏡材料成本極高。所有主要廠商，包括尼康、佳能、IBM 等都在 157nm 干式路線上投入了大量資源。

2002 年夏天，時任臺積電研發(fā)高管的林本堅（Burn J. Lin）在 SEMATECH 主辦的 157nm 微影研討會上做了一次偏離預定主題的演講。他原本被安排討論如何用浸沒技術延長 157nm 光刻的壽命，但他在演講中直接指出 157nm 路線的技術挑戰(zhàn)過于嚴峻，轉而提議將浸沒技術應用于已經成熟的 193nm 平臺。用水（折射率約 1.44）替代空氣填充鏡頭與晶圓之間的空隙，可以將 193nm 光源的等效波長壓縮到約 134nm，不需要開發(fā)新光源就能大幅提升分辨率。

圖丨林本堅（來源：Graduate Institute of Photonics and Optoe）

這個方案遇到了廣泛的懷疑。當時行業(yè)的主流共識仍然錨定在 157nm 干式路線上，各大廠商已經投入了數億美元的研發(fā)費用。浸沒式意味著推翻既有路線，接受沉沒成本。尼康也不例外，它在 157nm 路線上的投入尤為深重。

ASML 是當時少數愿意認真對待浸沒式的公司之一。作為市場追趕者，ASML 在既有路線上和尼康正面競爭并不占優(yōu)勢，一條新技術路線反而可能改變格局。2003 年，ASML 向客戶交付了第一臺浸沒式光刻機原型 TWINSCAN XT:1150i。同年 12 月，臺積電成為全球第一家正式下單 ASML 浸沒式光刻機的芯片制造商。

尼康的反應明顯慢了一拍。它的第一臺浸沒式原型機直到 2004 年 10 月才完成，比 ASML 晚了將近兩年。佳能更干脆，始終沒有交付過浸沒式產品。

兩年的時間差在半導體行業(yè)足以改變競爭格局。ASML 的浸沒式光刻機是在成熟的 193nm 平臺上改進而來，客戶切換成本低、系統穩(wěn)定性好。尼康同期力推的 157nm 干式光刻機則是全新架構的產品，市場接受度遠不及預期。到 2009 年，ASML 的全球市場份額飆升至約 70%，尼康從行業(yè)龍頭變成了跟隨者。

浸沒式之戰(zhàn)的失利已經很痛，但真正讓尼康喪失翻盤可能的，是接下來在 EUV（極紫外光刻）領域的出局。

浸沒式光刻的潛力終歸有限。要制造 7nm 及以下的先進制程芯片，行業(yè)需要波長更短的光源。EUV 使用 13.5nm 波長的極紫外光，分辨率遠超 193nm 浸沒式，被視為延續(xù)摩爾定律的關鍵技術。

尼康和日本政府都把 EUV 看作必須拿下的制高點。馬立稔和此時已經成長為尼康光刻技術團隊的核心管理者，參與主導了尼康的 EUV 預研。日本政府以經濟產業(yè)省為主導，投入數百億日元資金，聯合尼康、佳能、東京電子、信越化學和多所大學，組建了龐大的產官學攻關體系。這條路線的基本思路是集中國內力量、垂直整合、自主研發(fā)。

但這個體系從一開始就面臨一個結構性問題：尼康被排除在了美國主導的 EUV 核心技術圈之外。

1997 年，英特爾聯合 AMD、摩托羅拉等美國芯片廠商，與美國能源部下屬的桑迪亞、勞倫斯利弗莫爾和勞倫斯伯克利三大國家實驗室合作，成立了 EUV LLC 聯盟，投入約 2.5 億美元進行 EUV 基礎技術研究。

英特爾作為聯盟中最大的出資方，本來希望把尼康也拉進來。但美國國會和能源部對將納稅人資助的研究成果轉讓給日本企業(yè)高度警惕，1980 年代日本半導體產業(yè)對美國造成的沖擊仍然是鮮明的記憶。最終，ASML 被允許加入聯盟并獲得 EUV 技術的許可授權，條件是承諾在美國投資和采購；尼康和佳能則被拒之門外。

ASML 拿到入場券后步步推進：2001 年收購美國光刻設備商 SVG，獲得更多 EUV 知識產權；與德國蔡司合作開發(fā) EUV 光學系統；2012 年收購美國光源公司 Cymer。同年，英特爾、三星、臺積電三大客戶向 ASML 直接注資超過 60 億歐元，幫助其加速 EUV 商用化，這種由客戶出錢扶持供應商的模式，在半導體設備行業(yè)也是史無前例。

尼康走的是另一條路。靠日本國內的力量自主研發(fā)，既沒有全球化供應鏈的配合，也沒有頂級客戶的真金白銀。2007 年前后，尼康確實造出了 EUV 光刻機的原型機，但始終未能達到可商用的技術標準。

據 CSET（喬治城大學安全與新興技術中心）2024 年發(fā)布的研究報告，到 2011 年前后，EUV 開發(fā)成本已經飆升到尼康難以獨立承受的程度，公司選擇退出 EUV 的商用化開發(fā)。ASML 也曾在這條路上燒錢到幾乎斷糧，但它有三大客戶兜底，有美國國家實驗室的技術積累，有蔡司和 Cymer 的配套，而尼康沒有這些。

至此，尼康在先進制程光刻設備市場上的競爭資格實質性終結。ASML 成為全球唯一的 EUV 光刻機供應商。臺積電、三星、英特爾要推進 7nm、5nm、3nm 制程，只能找 ASML 買設備。這個市場里不再有尼康的位置。

馬立稔和在升任 CEO 之后，試圖為尼康尋找光刻機之外的增長空間。在最知名的影像業(yè)務上，其任期內尼康的 Z 卡口無反相機產品線持續(xù)擴展，Z8、Zf、Z6III 等機型在全球市場都取得了不錯的成績，2025 財年影像產品營收達到 2,953 億日元，同比增長 5.6%，已經超過精機事業(yè)成為集團最大的收入來源。

2024 年，尼康又斥資約 85 百萬美元收購了美國電影攝影機品牌 RED Digital Cinema，將 RED 的色彩科學和編碼技術引入 Z 卡口生態(tài)，隨后推出了融合兩家技術的 ZR 數字電影攝影機，試圖打入此前被索尼、佳能和 ARRI 主導的專業(yè)影視制作市場。

但在戰(zhàn)略布局上，馬立稔和押得更重的賭注是 3D 打印。2022 年，尼康斥資約 622 億日元收購德國金屬 3D 打印企業(yè) SLM Solutions，押注數字制造領域。這筆收購被定位為公司戰(zhàn)略轉型的支點，目標是在航空航天和國防領域的增材制造市場中建立新的收入來源。

但金屬 3D 打印市場的增速遠不及預期，SLM 的營收持續(xù)低迷。到 2026 財年第三季度，尼康不得不為這筆收購計提 906 億日元的商譽和無形資產減值，這一個數字就幾乎吞掉了公司全年的利潤。

在光刻機業(yè)務上，尼康目前的策略是固守成熟制程市場，同時嘗試局部反攻。公司正在開發(fā)一款新的 ArF 浸沒式光刻系統，計劃 2028 財年推出，設計上刻意兼容 ASML 的 TWINSCAN 生態(tài)，降低客戶切換門檻。目標很明確：在 ASML 占據超過 90% 份額的 ArF 浸沒式市場中搶回一些空間。此外，尼康也在開發(fā)面向先進封裝的無掩膜數字光刻設備，試圖在 Chiplet 和玻璃基板封裝等新興領域找到切入點。

但尼康面臨的結構性困境，遠不是一兩款新產品能解決的。SemiVision Research 在 2026 年 3 月的一篇分析中指出了尼康的核心矛盾：它既不是先進制程領域不可或缺的供應商，也不是成熟制程市場中成本最低的玩家。在先進制程那端，ASML 的壟斷地位不可動搖，只要臺積電、三星和英特爾還在推進更小的節(jié)點，ASML 就是必選供應商。

在成熟制程這端，中國正在大規(guī)模擴充 28nm 及以上工藝的產能，國產設備替代的浪潮正在逐步蠶食尼康賴以生存的客戶基礎。出口管制又讓尼康無法安心把中國當作增長支柱，既面臨合規(guī)風險，又面臨未來被中國國產設備取代的長期威脅。

馬立稔和留給繼任者的，是一個遠比他接手時更困難的局面。他的前任牛田一雄（Kazuo Ushida）2019 年交棒時，尼康雖然已經在先進光刻領域落后 ASML，但至少核心業(yè)務還在盈利，英特爾這個大客戶的訂單也相對穩(wěn)定。而現在，英特爾自身深陷制程轉換的泥潭，對尼康光刻機的采購量已經大幅下滑。據報道，尼康光刻機營收中有七到八成曾依賴英特爾一家客戶。英特爾訂單的萎縮，對尼康精機事業(yè)的打擊不亞于任何技術路線的失敗。

回頭看馬立稔和的整個職業(yè)生涯，他身上濃縮了尼康光刻機業(yè)務的全部矛盾。他入職時，尼康正處在巔峰；他掌管光刻事業(yè)部時，尼康已經在浸沒式和 EUV 兩場關鍵戰(zhàn)役中落敗；他成為 CEO 后，試圖用 SLM 收購打開新局面，結果又遭遇了一次昂貴的失敗。這不全是一個人的責任，尼康在浸沒式上的遲鈍是整個日本光刻產業(yè)的集體選擇，在 EUV 上的出局更有深刻的地緣政治因素，但馬立稔和作為這家公司光刻基因最深的管理者，確實是這段下墜歷史中最無法回避的名字。

新任 CEO 大村泰弘的背景是光學工程，在尼康的光學工程部門和醫(yī)療健康事業(yè)部都有過管理經驗，后來又擔任過 CTO，負責生產技術。他不是從光刻機業(yè)務線上成長起來的人，這或許是尼康有意為之的選擇。尼康的下一個五年中期計劃（2026 年 4 月至 2031 年 3 月）需要回答的核心問題只有一個：在 ASML 和中國之間，尼康到底還能找到什么樣的生存空間？

圖丨大村泰弘（來源：Nikon）

1980 年代入職尼康的那批工程師，大概從沒想過有一天要回答這種問題。

參考資料：

1.https://tspasemiconductor.substack.com/p/caught-between-asml-and-china-nikon

2.https://www.asianometry.com/p/a-deep-dive-into-immersion-lithography

3.https://www.nikon.com/company/news/2026/20260304_01_e.pdf

4.https://www.nikon.com/company/ir/ir_library/result/pdf/2025/25_1_e.pdf

5.https://www.construction-physics.com/p/how-asml-got-euv

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