湖南
按照國際半導體產業協會（SEMI）的數據，到2025年時，中國大陸的芯片產能大約是1010萬片（8寸晶圓當量），在全球排在第二名。
而接下來幾年，中國芯片產能還將持續增長，年復合增長率會超過20%，到2028年左右時，可能會成為全球第一。
從這個數據，也可以看出來，中國芯片發展有多厲害了。
不過，有一個數據，可能會讓大家感覺有點嚴峻，那就是雖然產能高，但是如果從技術來看，目前國內的芯片制造中，14nm及以下的芯片，占比可能在1.7%左右。
也就是說，絕大部分，幾乎是全部的芯片，均是采用14nm以上的成熟芯片工藝制造的。
為何會這樣呢，原因很簡單，那就是目前能夠制造14nm及以下芯片的廠商，整個大陸本土企業中，就只有一家，它就是中芯國際。
且中芯國際目前的技術，大約還處于等效7nm的水平，且因為設備被限制的原因，產能非常少，所以最終制造出來的先進芯片占比，也就是只有1.7%左右，其它的全部是采用28nm甚至以上工藝制造的。
當然，從全球芯片市場來看，28nm及以上的工藝占到了所有芯片數量的75%以上，但是如果論價值，先進芯片現在的占比是越來越高了，已經超過了40%。
因為所有的頂級一點的芯片，全部是采用7nm及以下的工藝來制造，比如手機Soc、CPU、GPU、AI芯片等等，只要是旗艦芯片，全部清一色的7nm及以下，甚至是3nm、2nm這樣的工藝了。
所以，這對于我們而言，還是壓力很大的，在提高芯片產能的同時，我們還要進行技術突破，因為如果不能搞定7nm及以下的工藝，未來可能50%的市場就和我們無緣了。
那么如何突破7nm，其中最重要的，我覺得就是國產光刻機的突破，特別是EUV光刻機的突破。
因為7nm時，或許還能夠用浸潤式DUV采用多重曝光來實現，但進入5nm或以下時，明顯浸潤式DUV不夠用了，要EUV光刻機才行。
但國外的EUV不賣給我們，我們怎么辦？只能自研了，研發不出來，先進芯片制造就受限，只有研發出EUV，才能真正不怕被卡脖子，才能將先進芯片占比提升上去。
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