俄羅斯稱掌握EUV光刻機(jī)核心技術(shù)，將先于中國(guó)制造成功

蘇聯(lián)時(shí)期七十年代，研究所那邊就開(kāi)始摸索EUV光刻的基本原理了。那時(shí)候他們搞出的多層鏡制造辦法，后來(lái)直接被國(guó)際上拿去用。

日本人最早投射出EUV圖像，就是靠著類似技術(shù)搭起來(lái)的橋。這份底子留到現(xiàn)在，讓俄羅斯在核心部件上有了實(shí)打?qū)嵉募业祝挥脧牧闩榔隆?/p>

其實(shí)多層鏡這玩意兒是EUV設(shè)備里最要緊的一環(huán)。俄羅斯科學(xué)院的研究所當(dāng)年還幫荷蘭那邊完善過(guò)工藝，鏡面反射率和穩(wěn)定性都達(dá)到了實(shí)用標(biāo)準(zhǔn)。

加上他們?cè)缙谠诘入x子體光源上的研究，像是同步輻射加速器和準(zhǔn)分子激光，這些經(jīng)驗(yàn)堆在一起，就成了今天說(shuō)有核心技術(shù)的底氣。不是空話，是實(shí)實(shí)在在的技術(shù)傳承。

到了2025年，澤列諾格勒納米技術(shù)中心跟白俄羅斯伙伴一塊兒，把第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)弄出來(lái)了。制程定在350納米，專門對(duì)200毫米硅片。

這設(shè)備已經(jīng)通過(guò)官方檢查，正在做集成試運(yùn)行。雖然技術(shù)不算最新，但它證明本土鏈條能動(dòng)起來(lái)，填補(bǔ)了之前全靠進(jìn)口的空白。

這臺(tái)機(jī)器的問(wèn)世不是突然冒出來(lái)的。之前幾年俄羅斯就定了計(jì)劃，2024年開(kāi)始投產(chǎn)這類設(shè)備，2026年再往130納米靠。現(xiàn)在看來(lái)節(jié)奏穩(wěn)，供應(yīng)鏈本地化也在同步跟進(jìn)。芯片生產(chǎn)里這些基礎(chǔ)環(huán)節(jié)穩(wěn)了，后面的升級(jí)才有抓手。

俄羅斯把EUV的路線圖亮了出來(lái)，時(shí)間拉到2036年前后。核心是走11.2納米波長(zhǎng)這條路，用氙氣等離子體加固態(tài)激光做光源，鏡子材料選釕鈹合金。

比起主流的13.5納米和錫滴方案，這套設(shè)計(jì)省去了碎屑清理麻煩，維護(hù)成本能降下來(lái)，整體結(jié)構(gòu)也簡(jiǎn)化不少。

路線圖分三步走。先是2026到2028年搞定40納米級(jí)，雙鏡系統(tǒng)，套刻精度10納米，曝光場(chǎng)小但產(chǎn)能起步。接著2029到2032年上四鏡，精度提到5納米，場(chǎng)區(qū)擴(kuò)大，效率翻好幾倍。

最后階段到2036年，六鏡配置實(shí)現(xiàn)亞10納米，疊加精度2納米，每小時(shí)上百片。整個(gè)過(guò)程直接瞄準(zhǔn)EUV，少走傳統(tǒng)DUV浸沒(méi)那些彎路。

這種選擇其實(shí)挺接地氣的。外部限制擺在那兒，俄羅斯得靠自己把關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)捏緊。光源理論、反射鏡工藝這些老底子，現(xiàn)在正好派上用場(chǎng)。加上他們持續(xù)在等離子體建模和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)上投入，整合起來(lái)就有了可行路徑。

中國(guó)這邊也在半導(dǎo)體上使勁兒，大家都明白自力更生的重要性。俄羅斯的這些動(dòng)作，表面看是自家事兒，其實(shí)也給整個(gè)行業(yè)開(kāi)了個(gè)頭。壟斷局面不是一天破的，得一步一步來(lái)。他們的歷史貢獻(xiàn)加上現(xiàn)在規(guī)劃，說(shuō)明技術(shù)壁壘不是鐵板一塊。

光刻機(jī)這東西復(fù)雜程度高，部件成千上萬(wàn)。俄羅斯選的替代方案，避開(kāi)了高壓流體和多重曝光那些痛點(diǎn)。鏡片反射率優(yōu)化好了，光路就穩(wěn)，產(chǎn)能自然能提。早期蘇聯(lián)研究里積累的同步輻射經(jīng)驗(yàn)，現(xiàn)在轉(zhuǎn)到氙等離子體上，轉(zhuǎn)化效率有提升空間。

當(dāng)然路還長(zhǎng)，原型機(jī)驗(yàn)證、供應(yīng)鏈配套這些都得跟上。2025年路線圖公布后，研究所那邊已經(jīng)開(kāi)始基礎(chǔ)測(cè)試，數(shù)據(jù)一點(diǎn)點(diǎn)積累。目標(biāo)不是喊口號(hào)，而是實(shí)打?qū)嵃言O(shè)備造出來(lái)用起來(lái)。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)升級(jí)靠的就是這種韌勁。俄羅斯從350納米起步，往EUV沖，中國(guó)也在同步發(fā)力。兩國(guó)都在技術(shù)封鎖下找突破口，這對(duì)全球供應(yīng)鏈其實(shí)是好事。核心技術(shù)掌握在自己手里，產(chǎn)業(yè)安全才牢靠。

多層鏡的制造工藝，當(dāng)年俄羅斯貢獻(xiàn)不小。現(xiàn)在他們繼續(xù)深挖，結(jié)合新材料，把反射率和耐用性再往上推。光源部分，氙方案避免了錫污染，設(shè)備運(yùn)行周期能拉長(zhǎng)。這都是實(shí)實(shí)在在的工程優(yōu)化，不是紙上談兵。

規(guī)劃里產(chǎn)能目標(biāo)一步步抬高，從每小時(shí)幾片到上百片，場(chǎng)區(qū)也從3毫米擴(kuò)展到全尺寸。光學(xué)系統(tǒng)從雙鏡到六鏡，復(fù)雜度增加但精度跟著上來(lái)。俄羅斯這套路子，成本控制得住，對(duì)中低端應(yīng)用先落地，再往高端走。

自研這條路走通了，芯片生產(chǎn)就不再卡脖子。俄羅斯的例子擺著，歷史底子加上現(xiàn)實(shí)行動(dòng)，說(shuō)明只要堅(jiān)持，先進(jìn)設(shè)備不是遙不可及。中國(guó)同樣在投資源，大家互相借鑒，行業(yè)整體水平才能起來(lái)。