99%的人沒聽過的Ushio，卻是半導體界的“打光師”？

關(guān)于Ushio：

以光為名，驅(qū)動產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新

自1964年創(chuàng)立以來，Ushio便專注于一件事：將“光”的潛能發(fā)揮到極致。

作為全球領(lǐng)先的“光的解決方案公司”，Ushio不僅在工業(yè)光源領(lǐng)域深耕細作，更在電子、影像及生命科學領(lǐng)域持續(xù)挑戰(zhàn)技術(shù)極限。Ushio深信，光不僅是照明的工具，更是推動半導體產(chǎn)業(yè)迭代的核心能源。

相約上海：

N3館 3675，不見不散

SEMICON China 2026即將拉開帷幕，Ushio將攜前沿的光刻技術(shù)與解決方案亮相。

我們的坐標:

上海新國際博覽中心

展位號：N3館 3675

我們期待與新老朋友相聚一堂，不談虛言，只論技術(shù)。

無論您是尋求技術(shù)突破的合作伙伴，還是關(guān)注行業(yè)動態(tài)的業(yè)界同仁，Ushio展臺都將是您此行不可錯過的一站。

全場投影光刻機UX-4系列

從2026年Q1開始接受面向大晶圓的UX-4系列全場投影光刻機的新產(chǎn)品“UX-45114SC”的訂單，該產(chǎn)品實現(xiàn)了應對φ6/φ8英寸的同時，分辨率可達到L/S=2.8μm的高套準精度。

“UX-45114SC”是UX-4系列的最新機型，UX-4系列光刻機多年以來一直服務于功率半導體、MEMS傳感器、通信及光電融合相關(guān) (光半導體)等領(lǐng)域，致力于提升元器件的生產(chǎn)效率，并擁有大量的導入實績。

近年來，隨著這些元器件的高性能化要求發(fā)展，需要不斷推進線路的細小化。另外，為了提高芯片的生產(chǎn)效率，也產(chǎn)生了晶圓的大口徑化目標，φ6/φ8英寸化也在不斷推進。為滿足這些需求，Ushio依托自創(chuàng)業(yè)以來培育的獨創(chuàng)光學設(shè)計技術(shù)，采用與以往不同的特殊光學顯微鏡，成功研發(fā)出了支持φ6/φ8英寸、分辨率L/S=2.8μm的高套準精度產(chǎn)品UX-45114SC。

因此，對于物聯(lián)網(wǎng)、5G、移動發(fā)展等下一代電子元器件所不可或缺的晶圓大型化和高精度化疊層要求，在保持高產(chǎn)速的同時提高分辨率和套準精度，可實現(xiàn)和傳統(tǒng)產(chǎn)品同等甚至以上的生產(chǎn)效率和高成品率。

數(shù)字光刻系統(tǒng)DLT系列

Ushio與美國應用材料（Applied Materials）公司合作，共同推出了具備數(shù)字光刻技術(shù)的新一代產(chǎn)品DLT系列。該產(chǎn)品為數(shù)碼光刻系統(tǒng)，專門用于先進封裝領(lǐng)域，曝光分辨率可達1μm，對位精度0.35μm。DLT具有數(shù)據(jù)動態(tài)連接功能（DDC），可解決硅橋（CoWoS-L）位移等技術(shù)難題。同時，由于具備單元對位（Unit Alignment）以及實時自動聚焦（On-the-fly Autofocus）功能，可以很好地解決基板翹曲導致的圖形形變與表面凹凸問題。Ushio認為，DLT 技術(shù)對于先進封裝開發(fā)的成功至關(guān)重要。

步進式光刻機UX-5系列

“UX-59113”這款最先進IC封裝基板用的大面積光刻的步進式光刻機，該Stepper實現(xiàn)了世界高水準的分辨率L/S=1.5 μ m，并大幅提高了套準精度，計劃于2026年上市。

集成電路晶體管的集成密度遵循“每兩年翻一倍”的摩爾定律，雖然半導體目前的發(fā)展勁頭良好，但從2010年開始，單個晶體管的小型化發(fā)展趨勢逐漸趨緩，同時封裝技術(shù)也在不斷進步，近幾年還開發(fā)出chiplet等新技術(shù)，市場也不斷擴大。伴隨而來的是封裝基板小型化的要求加速增長，光刻設(shè)備亟需提高分辨率和套準精度。

“UX-58112SC”是在全球市場具有高占有率的先進IC封裝基板光刻設(shè)備UX-5系列的最新機型，用于個人電腦、智能手機、平板電腦等設(shè)備中的半導體封裝基板光刻工序。

鹵素加熱燈管

將85%以上輸入功率轉(zhuǎn)化為紅外輻射，具備優(yōu)異的升溫與降溫性能，匹配各類金屬吸收特性，實現(xiàn)高效、精準加熱。光學設(shè)計的加熱器單元和專用 PID 控制系統(tǒng)可提供出色的熱控制，非接觸式平面內(nèi)溫度分布可達到 ±5%。作為非接觸式加熱裝置，能保持空間潔凈，可用于空氣或真空等加熱空間。

在低溫至高溫、常壓至高真空、氧化膜形成、離子注入后的活性化、硅化物形成等半導體制造工藝中，作為行業(yè)標準熱源使用。此外，還可作為輔助加熱器和輔助熱源發(fā)揮重要作用。

準分子清洗

封入氙氣的準分子(Excimer)燈，（誘電體屏障放電Excimer燈），可有效放射波長172nm的VUV（真空紫外線），達到快速的化學反應與反應速度。

準分子燈主要原理是通過紫外線打斷有機物的氫氧鍵，清洗產(chǎn)品表面的同時，可以增加表面的清水性和粘附力。

在半導體領(lǐng)域中的主要運用是掩模版的清洗和制造，玻璃基板的清洗同時增加其表面的粘附力，殘余光刻膠的去除，成膜以及光刻工序前后的表面清洗等等。

光之所至，未來可期

當前，面對日益復雜的全球環(huán)境與社會課題，中國正憑借其創(chuàng)新活力與產(chǎn)業(yè)視野，成為許多領(lǐng)域的引領(lǐng)者。Ushio深耕光技術(shù)六十余年，愿始終秉持“光的解決方案公司”的定位，以更堅定的步伐深耕中國市場。

我們期待與每一位產(chǎn)業(yè)伙伴攜手同行，不僅用光點亮技術(shù)革新的前路，更以光為媒，共同為推動產(chǎn)業(yè)進步與社會的可持續(xù)發(fā)展貢獻力量。

*免責聲明：本文由作者原創(chuàng)。文章內(nèi)容系作者個人觀點，半導體行業(yè)觀察轉(zhuǎn)載僅為了傳達一種不同的觀點，不代表半導體行業(yè)觀察對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯(lián)系半導體行業(yè)觀察。

今天是《半導體行業(yè)觀察》為您分享的第4349內(nèi)容，歡迎關(guān)注。

加星標??第一時間看推送

求推薦